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第3679章 赵长安为什么选择5500（第1页）

赵长安点点头，twinscan

at:750t使用的是波长为248nm的krf光源（氟化氪激光）系统，支持最小工艺制程130nm生产，优势就是twinscan系统的双晶圆平台，工作效率大幅度提升。

pas5500目前使用的有i-line光源（高压汞灯）365nm，最小工艺制程800-250nm，248nm的krf激光光源，最小工艺制程到180-130nm。

两者之间的区别就是twinscan

at:750t的工作效率更高，不过价格更贵，整机架构更加的精密复杂，零件更多。

可以想见的是，下一步asml肯定是要把twinscan

at向上和向下带入365纳米i-line光源，193nmarf（氟化氩）光源领域，形成一个系统性的光源跨度，满足用户不同的芯片制程需求。

不过既然pas5500既然已经有了足够的光源跨度和诸多型号，而且有了十年不断的技术完善和稳定性的证明，就算单机效率低一点赵长安也能忍受。

单机效率低多买几台就行了，而且真要是订单够多，可以让工人三班倒，人有多大胆地有多大产办法总比困难多。

看看萧扬明说的5500今年没货，750的订单却只是排到今年五月，赵长安就知道这些资本家们哪一个都是贼精明，毕竟相比已花更多的钱购买昂贵的机器，不如花小钱给工人开工资划算。

而实际上在赵长安的前一世，asml凭借着5500从一个濒临破产倒闭的企业，一直干到行业第二，直到06年全球首台浸没式光刻机twinscan

xt:1700i，193nm光刻机，最小工艺制程到45nm，上市量产，才逐步停产利润太低的pas5500系列，而5500经过了十六七年的不断的研发迭代，已经有了十几个型号。

asml的twinscan

at系统双晶圆平台，在目前的制程工艺里面，并没有足够的性价比优势，因为现在即使asml收购了sgv，然而依然有着nikon和canon这两家强大的步进式光刻机企业，可以提供同类的产品。

无论是g-line436nm光源，还是i-line，krf，这三家企业对市场份额的争夺一直都比较激烈。

况且在g-line，i-line领域，除了这三家企业，hitachi（日立），abm，nuflare

technology（东芝下属企业纽富来），tel（东京电子），sharp，——也都有着成熟的步进式光刻机售卖。

这里面abm成立于1986年，总部位于美国硅谷san

jose，一纳米江城研究院去年年初购买的一台g-line光源步进式光刻机，就是从abm购买，目前产品涵盖了g-line，i-line光源波段，最小工艺制程220nm。

abm最大的客户是nasa（m国航空航天局）和英特尔，因为价格相对便宜，在加上本土运输相对便捷，北美一半左右的高校和研究机构在g-line，i-line光源波段，购买的都是abm的光刻机，在北美排名第二，排在svg后边。

只不过abm明确无意于更窄光源的光刻机的研发制造，本身即使在未来几十年，220nm以上制程的光刻机的需求量将会保持着很大的需求量，对于abm来说一招鲜吃遍天。

就像svg投资大量资金搞157nm工艺研发，结果搞的利润低薄，被asml摘了桃子。

有着这么多的竞争企业，所以光刻机的价格也都是利润很高，但是还算不上太过于夸张的暴利。

直到将来步进式光刻机进入arf，arfi（193nm，水介质），有了真正的技术壁垒，65nm制程以下的步进式光刻机的暴利时代才到来。

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