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第332章 我们就差这张牌了（第1页）

其他专家固然没有办法从专业的角度听懂其中的难度，但光是凭借直觉就能明白这有多难了。

用一个拥有近乎无穷解空间的、典型的NP-hard问题，这些形容词和最后的名词，听起来就觉得困难。

近乎无穷解，在数学知识大约等于数学系大一大二学生的工业专家们看来，和近乎无法求解没有区别。

坐在魏哲边上的专家，看他的脸色也能看出端倪，看魏哲一副惊呆的样子，就知道林燃又做了什么惊天动地的结果出来。

梁孟松举手，林燃点了点头：“梁工，你说。”

“林总，”梁孟松的语气很沉重，“您从算法层面为我们提供了解决方案，现在我们从理论上能做到。

但是在现实世界中要到，我们需要有精度足够高的模板，有了这样的模板，我们才能用NIL光刻机去印所谓的超构透镜，才能拥有传统路线光刻机所需的镜头。

我解释一下，我们要制造的，是带有5纳米级别结构的超构透镜母版模板。

而要制造这个母版，我们需要一台电子束写入机。”

“这东西，就像一支笔。”梁孟松努力用最简单的语言解释，“光刻机，像一台巨大的印刷机，可以把模板上的图案，一秒钟复印几十次。

而电子束写入机，就是那支用来制作印刷母版的、最原始的笔。

你的笔有多细，决定了你的母版有多精细。

而我们，我们国产的、最先进的电子束写入机，能稳定刻画的最小线宽，是65纳米。

用65纳米的笔，去雕刻5纳米的图案，这是不可能的。”

多电子束写入机是一种用于高精度图案转移的先进半导体制造设备，通过使用多个电子束同时在晶圆上写入图案。

梁孟松说的更常见一点的名词叫掩膜版，光透过掩膜版在硅片上印上图案，掩膜版的精度决定了硅片上集成电路的精度。

用来制作掩膜版的机器就叫多电子束写入机，它一次只能制作一块掩膜版，适用于小批量、高复杂性的图案制造需求。

总结来说，没有最先进的电子束写入机，就无法制造出用于生产最先进芯片的掩膜版。

它是整个半导体制造产业链的“源头”，其战略重要性，丝毫不亚于EUV光刻机本身。

全球最先进的、用于EUV级别的多电子束掩膜写入机，其市场被奥地利的IMSNanofabrication公司，现已被英特尔绝对控股。

另一家霓虹公司NuFlareTechnology也在研发，但市场份额和技术应用广度上都有差距，这是东芝的子公司。

国内的申海微电子旗下也有子公司在负责研发，但精度是90nm到65nm之间。

无论是哪个技术路线的光刻机，都需要有掩膜版，在母版上面去印刷。

会议室里，刚刚因数学突破而燃起的乐观气氛，瞬间被浇灭了。

大家都是业内人士，很清楚梁孟松说的是事实。

没有最顶尖的笔，再完美的设计图也只是一张废纸。

林燃说：“这不是问题，我们虽然没有最先进的笔，但是有次一级的笔。”

林燃看向台下的杨德人说道：“杨院士，你来说说吧。”

随即把舞台交给杨院士。

杨德人站起来，自豪道：“诸位，很荣幸的告诉各位，就在三个月前，由我们浙大的余杭所牵头，联合国内相关单位，历经十余年年攻关的、我国第一台具备商业化能力的高精度多电子束写入机，已经完成了最终测试。

我们以华国古代最伟大的书法家之名，将其命名为——羲之。”

（我国首台6nm的电子束光刻机-羲之，来自HZ市政府官网，不知道为啥国内媒体没咋报道，完全没热度）

“羲之和传统的光刻机不同。”杨院士接着说道：“它不需要掩膜版，而是通过计算机控制，用一道能量极高的、被聚焦到极致的电子束，直接在硅基材料上书写电路。

因此，它可以随时修改设计，反复调试，特别适合芯片研发初期的验证，以及制造像超构透镜母版这样、独一无二的超高精度元件。”

最后杨院士深吸了一口气，报出了那两个让所有人屏息的数字：“它的性能指标，最小稳定线宽为8纳米，电子束定位精度为0。6纳米。”

“这不可能！定位精度0。6纳米？这精度是不是太夸张了？”

“0。6纳米？比老美的精度还要更高？”

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